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VJC系列磁控溅射镀膜设备配备多只圆形平面靶或矩形平面靶,采用DC、DC脉冲、RF电源,该系列设备真空机电一体化设计,结构紧凑;核心部件进口国内组装,性价比高;模块化设计,可扩展性和高可靠性;广泛应用于科研院所、实验室制备单层或多层薄膜,以及新材料、新工艺研究。
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VJC-200磁控溅射镀膜设备配备一只圆形平面靶,可选用DC、DC脉冲、RF电源,该系列设备真空机电一体化设计,结构紧凑;核心部件磁控靶自主研发,性能稳定,性价比高;模块化设计,可扩展性和高可靠性;广泛应用于科研院所、实验室制备单层薄膜,以及新材料、新工艺研究。