磁控溅射镀膜联合手套箱系统（VJCB-1800）
设备主要特点:
VJCB系列磁控溅射镀膜与手套箱联合系统的用户群体为科研院所及实验室，将磁控溅射系统工作室置于Glove box无水、无氧、无尘的超纯环境中，PVD与Glove box硬件无缝对接，操控融合一体，广泛应用于OPV、OLED、PLED等研究领域。
该套系统在我公司成熟的磁控溅射镀膜与手套箱联合系统的平台上，根据OPV/钙钛矿太阳能电池薄膜沉积特点，对整个系统进行再设计和深度定制。
★ 真空机组采用分子泵+直联旋片泵准无油真空系统；
★ 溅射阴极可兼容直流、脉冲、射频溅射电源；
★ 基片台旋转，转速0-20rpm可调；
★ 可定制掩膜机构（mask），采用Inficon膜厚监控系统精确监测溅射速率和终厚；
★ 大箱体组装磁控溅射系统，底部开石英视窗，承担溅射和检测功能；小箱体组装旋涂仪，承担旋涂功能；两者之间通过T型过渡舱连接；
★ 系统PLC手自独立控制，良好的薄膜均匀性和重复性；
主要技术指标：
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型号 |
VJCB-1800 |
VJCB-2400 |
OPV-Ⅰ |
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真空腔体 |
400×400×450mm |
400×400×450mm |
400×400×450mm |
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304不锈钢，内表面镜面抛光 |
304不锈钢，内表面镜面抛光 |
304不锈钢，内表面镜面抛光 |
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手套箱体 |
1800×750×900mm |
2400×750×900mm |
大箱体1800×750×900mm 小箱体1200×750×900mm |
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真空系统 |
国产分子泵+合资机械泵 |
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极限真空 |
优于10-5Pa |
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恢复真空时间 |
达到9×10-4Pa≤15min |
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蒸发源 |
2～3只溅射靶 |
2～3只溅射靶 |
2～3只溅射靶 |
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蒸发电源 |
直流、脉冲、射频电源 |
直流、脉冲、射频电源 |
直流、脉冲、射频电源 |
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基片台 |
最大110mm基片/15*15mmITO玻璃25片，可旋转/加热/水冷，可定制掩膜板 |
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膜厚控制 |
采用国产/进口膜厚监控仪在线监测溅射速率和最终厚度 |
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电控系统 |
手动按钮继电器控制，完善的逻辑程序互锁保护及异常报警； 可实现全自动控制，可编程控制器（PLC），液晶显示触摸屏 |
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选配 |
冷却循环水机/膜厚监控仪/基片台加热或水冷/溅射电源/旋涂仪/太阳能模拟光源 |
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技术支持&服务：
1. 技术支持：在合同签订之前，我们的专业工程师会在充分了解客户需求的前提下，为客户做出最优的选型和方案设计，使客户充分了解并理解产品技术指标、性能用途、使用场合、安全注意事项等，以帮助客户做出正确的选择。
2. 安装与培训：在产品使用前，我们会派专业工程师为您提供现场技术支持、培训及演示服务。
3. 产品质保：我们对产品提供12个月的质保期，在质保期内发生设备或配件损坏由公司负责赔偿或免费维修。（耗材和易损件除外）
4. 终身维护：我们对提供的产品提供终身服务，对于超过质保期限的维修、维护仅收取材料费，免除一切人工费用。
