高真空三靶磁控溅射镀膜设备
设备主要特点：
VJC系列磁控溅射系统的用户群体为科研院所与高校实验室，核心部件均采用欧美知名品牌，技术先进，性能稳定，可替代进口。
其主要特点有：
★ 前开门溅射腔体；
★ 国产分子泵和直联旋片泵，可选配进口分子泵和干泵系统；
★ 2～4个磁控靶位，磁控靶规格有50mm，75mm可选，选用欧美知名品牌；
★ 兼容直流和射频溅射源，溅射金属、非金属及化合物薄膜(如：ITO)等；
★ 朝上或朝下溅射；
★ 2英寸基片/或根据客户指定的基片来定制基片台，基片旋转，可加偏压；基片加热400℃；
★ 2～4路工艺气体；
★ 良好的薄膜均匀性和重复性，可沉积金属、半导体和绝缘材料，可拓展沉积多层膜及复合膜。
主要技术指标
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型号 |
VJC-300 |
VJC-400 |
VJC-500 |
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真空室 |
Φ300×H350mm |
Φ400×H350mm |
Φ500×H400mm |
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304不锈钢真空室，内表面镜面抛光 |
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真空系统 |
国产分子泵+合资机械泵 |
进口分子泵+进口机械泵/干泵 |
进口分子泵+进口机械泵/干泵 |
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极限真空 |
优于10-5Pa |
优于2.0×10-5Pa |
优于2.0×10-5Pa |
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恢复真空时间 |
达到9×10-4Pa≤20min |
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溅射靶 |
2只2英寸溅射靶； 进口品牌 |
3只2英寸溅射靶或 2只3英寸溅射靶； 进口品牌 |
3只3英寸溅射靶或 2只矩形平面靶 |
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溅射电源 |
DC,DC脉冲,RF |
DC,DC脉冲,RF |
DC,DC脉冲,RF |
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工艺气体 |
2路工艺气体,可拓展 |
3路工艺气体,可拓展 |
3～4路工艺气体,可拓展 |
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膜厚不均匀性 |
±3%～±5% |
±3%～±5% |
±3%～±5% |
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电控系统 |
手动按钮继电器控制，完善的逻辑程序互锁保护及异常报警； |
可实现全自动控制，可编程控制器（PLC），液晶显示触摸屏 |
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选配 |
冷却循环水机/膜厚监控仪/基片台加热或水冷/溅射电源/偏压电源/恒压控制系统 |
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技术支持&服务
1. 技术支持：在合同签订之前，我们的专业工程师会在充分了解客户需求的前提下，为客户做出最优的选型和方案设计，使客户充分了解并理解产品技术指标、性能用途、使用场合、安全注意事项等，以帮助客户做出正确的选择。
2. 安装与培训：在产品使用前，我们会派专业工程师为您提供现场技术支持、培训及演示服务。
3. 产品质保：我们对产品提供12个月的质保期，在质保期内发生设备或配件损坏由公司负责赔偿或免费维修。（耗材和易损件除外）
4. 终身维护：我们对提供的产品提供终身服务，对于超过质保期限的维修、维护仅收取材料费，免除一切人工费用。
