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高真空磁控溅射复合电阻蒸发多功能镀膜设备

VZZ-400 采用完全封闭的系统框架,结构紧凑,外观更漂亮,使用更安全。3~6组蒸发源可兼容金属、有机物蒸发。广泛应用于高校、科研院所制备高质量功能薄膜、蒸镀电极等,特别适合OPV/钙钛矿/无机薄膜太阳能电池、半导体、有机EL、OLED显示研究与开发领域。

产品详情

VZZ-400超高真空电阻蒸发镀膜设备采用完全封闭的系统框架,外观漂亮,使用安全。36组蒸发源可兼容金属、有机物蒸发。广泛应用于高校材料、物理、化学、电子、能源等相关学科以及科研院所制备高质量功能薄膜、蒸镀电极等,特别适合OPV/钙钛矿/无机薄膜太阳能电池、半导体、有机ELOLED显示研究与开发领域。

主要特点/优势:

     完全封闭的系统框架设计,外观更漂亮,使用更安全;是一台兼具美学和用户操控体验的全新升级产品;

     前开门真空腔体,方便取放基片、更换蒸发舟、添加蒸发材料以及真空室的日常维护;

     1200L/s分子泵作为主抽泵,真空极限高达5×10-5Pa(3.75×10-7Torr);另可选进口磁悬浮分子泵或者低温泵作为主抽泵,真空极限高达3×10-6Pa(2×10-8Torr)

     36组水冷式蒸发电极,可长时间稳定工作,兼容金属材料与有机材料的蒸发源设计,源间有防止交叉污染隔板;

     专业真空蒸发电源,恒流/恒功率控制。电流、功率可以预先设置,可实现一键启动和停止的自动控制功能;

     最大120mm基片/1525mm ITO/FTO玻璃25片,可定制一体化高精度刻蚀掩膜板;基片台公转,转速025rpm连续可调

     衬底可选择加热或水冷,源基距最大350mm

     更优的薄膜均匀性和重复性,采用进口膜厚监控仪在线监测和控制蒸发速率、膜厚;

     可沉积金属(Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等)、非金属、化合物(MoO3, LiF等)及有机物材料,可拓展沉积单层膜、多层膜及混合膜;

     设备集成度高,结构紧凑,占地面积小(1.12平米);设备配脚轮,方便移动和定位。

主要技术指标:

型号

VZZ-400

VZZ-400S

真空室

Φ400×H450mm

Φ400×H450mm

304不锈钢真空室,内表面镜面抛光;

304不锈钢真空室,内表面镜面抛光;

真空系统

复合分子泵+合资机械泵;

进口磁悬浮分子泵/低温泵+进口干泵;

极限真空

优于5×10-5Pa3.75×10-7Torr);

优于3.0×10-6Pa2.0×10-8Torr);

恢复真空时间

达到5×10-4Pa≤20min

蒸发源

36组蒸发源;至少2组共蒸

蒸发电源

2KW,精度0.1A;专业真空蒸发电源,恒流/恒功率控制。电流、功率可以预先设置,可实现一键启动和停止的自动控制功能;

基片台

120mm方形基片或1525mm ITO/FTO玻璃25片,可定制一体化高精度刻蚀掩膜板

基片台可选择加热(室温~300可调可控)或水冷

速率和膜厚监控

监测厚度范围:0.1Å99µ9999Å,分辨率0.1Å;监测速率范围:0.1Å9999.9Å.S/s,分辨率0.1Å

电控系统

手动按钮继电器逻辑控制;

可实现全自动控制,可编程控制器(PLC

报警及保护

完善的程序互锁,完备的防误操作设计及保护;系统缺水、过流过压等异常情况进行报警并执行相应保护措施。

选配

冷却循环水机/膜厚监控仪/基片台加热或水冷/蒸发电源

设备配电

电压:AC380V/50HZ

功率:≤6KW

设备尺寸

× 1280mm×860mm

型号推介

所有配置均为国产一线或进口品牌,性能稳定可靠

核心配置均为进口知名品牌,技术先进,该型号产品可替代进口

技术支持&服务:

1. 技术支持:在合同签订之前,我们的专业工程师会在充分了解客户需求的前提下,为客户做出最优的选型和方案设计,使客户充分了解并理解产品技术指标、性能用途、使用场合、安全注意事项等,以帮助客户做出正确的选择。

2. 安装与培训:在产品使用前,我们会派专业工程师为您提供现场技术支持、培训及演示服务。

3. 产品质保:我们对产品提供12个月的质保期,在质保期内发生设备或配件损坏由公司负责赔偿或免费维修。(耗材和易损件除外)

4. 终身维护:我们对提供的产品提供终身服务,对于超过质保期限的维修、维护仅收取材料费,免除一切人工费用。