高真空磁控溅射复合电阻蒸发多功能镀膜设备
VZZ-400超高真空电阻蒸发镀膜设备采用完全封闭的系统框架,外观漂亮,使用安全。3~6组蒸发源可兼容金属、有机物蒸发。广泛应用于高校材料、物理、化学、电子、能源等相关学科以及科研院所制备高质量功能薄膜、蒸镀电极等,特别适合OPV/钙钛矿/无机薄膜太阳能电池、半导体、有机EL、OLED显示研究与开发领域。
主要特点/优势:
★ 完全封闭的系统框架设计,外观更漂亮,使用更安全;是一台兼具美学和用户操控体验的全新升级产品;
★ 前开门真空腔体,方便取放基片、更换蒸发舟、添加蒸发材料以及真空室的日常维护;
★ 1200L/s分子泵作为主抽泵,真空极限高达5×10-5Pa(3.75×10-7Torr);另可选进口磁悬浮分子泵或者低温泵作为主抽泵,真空极限高达3×10-6Pa(2×10-8Torr);
★ 3~6组水冷式蒸发电极,可长时间稳定工作,兼容金属材料与有机材料的蒸发源设计,源间有防止交叉污染隔板;
★ 专业真空蒸发电源,恒流/恒功率控制。电流、功率可以预先设置,可实现一键启动和停止的自动控制功能;
★ 最大120mm基片/15~25mm ITO/FTO玻璃25片,可定制一体化高精度刻蚀掩膜板;基片台公转,转速0~25rpm连续可调;
★ 衬底可选择加热或水冷,源基距最大350mm;
★ 更优的薄膜均匀性和重复性,采用进口膜厚监控仪在线监测和控制蒸发速率、膜厚;
★ 可沉积金属(Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等)、非金属、化合物(MoO3, LiF等)及有机物材料,可拓展沉积单层膜、多层膜及混合膜;
★ 设备集成度高,结构紧凑,占地面积小(1.12平米);设备配脚轮,方便移动和定位。
主要技术指标:
型号 |
VZZ-400 |
VZZ-400S |
真空室 |
Φ400×H450mm; |
Φ400×H450mm; |
304不锈钢真空室,内表面镜面抛光; |
304不锈钢真空室,内表面镜面抛光; |
|
真空系统 |
复合分子泵+合资机械泵; |
进口磁悬浮分子泵/低温泵+进口干泵; |
极限真空 |
优于5×10-5Pa(3.75×10-7Torr); |
优于3.0×10-6Pa(2.0×10-8Torr); |
恢复真空时间 |
达到5×10-4Pa≤20min; |
|
蒸发源 |
3~6组蒸发源;至少2组共蒸 |
|
蒸发电源 |
2KW,精度0.1A;专业真空蒸发电源,恒流/恒功率控制。电流、功率可以预先设置,可实现一键启动和停止的自动控制功能; |
|
基片台 |
120mm方形基片或15~25mm ITO/FTO玻璃25片,可定制一体化高精度刻蚀掩膜板; 基片台可选择加热(室温~300℃可调可控)或水冷 |
|
速率和膜厚监控 |
监测厚度范围:0.1Å~99µ9999Å,分辨率0.1Å;监测速率范围:0.1Å~9999.9Å.S/s,分辨率0.1Å |
|
电控系统 |
手动按钮继电器逻辑控制; |
可实现全自动控制,可编程控制器(PLC) |
报警及保护 |
完善的程序互锁,完备的防误操作设计及保护;系统缺水、过流过压等异常情况进行报警并执行相应保护措施。 |
|
选配 |
冷却循环水机/膜厚监控仪/基片台加热或水冷/蒸发电源 |
|
设备配电 |
电压:AC380V/50HZ |
|
功率:≤6KW |
||
设备尺寸 |
长×宽: 1280mm×860mm |
|
型号推介 |
所有配置均为国产一线或进口品牌,性能稳定可靠 |
核心配置均为进口知名品牌,技术先进,该型号产品可替代进口 |
技术支持&服务:
1. 技术支持:在合同签订之前,我们的专业工程师会在充分了解客户需求的前提下,为客户做出最优的选型和方案设计,使客户充分了解并理解产品技术指标、性能用途、使用场合、安全注意事项等,以帮助客户做出正确的选择。
2. 安装与培训:在产品使用前,我们会派专业工程师为您提供现场技术支持、培训及演示服务。
3. 产品质保:我们对产品提供12个月的质保期,在质保期内发生设备或配件损坏由公司负责赔偿或免费维修。(耗材和易损件除外)
4. 终身维护:我们对提供的产品提供终身服务,对于超过质保期限的维修、维护仅收取材料费,免除一切人工费用。